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DNP

日本DNP印刷株式会社生产的量子点膜用高阻隔膜产品是量子显示封装技术的关键产品,高阻隔膜的制备技术决定着阻隔膜产品性能特性。通过分析量子点膜用高阻隔膜产品性能指标,总结热蒸发、化学气相沉积、原子层沉积等制备柔性高阻隔薄膜的方法、原理、特点及应用,展望量子点膜用阻隔膜产品的发展前景。

目前,结合有机/无机多层成膜特点,总结得出,高阻隔膜阻隔性能提升,主要通过真空镀膜技术来实现。电子束蒸镀技术生产速率最快,阻隔性能较差,制造成本最低,适用于铝等金属的蒸发镀膜。磁控溅射技术可以大大地提高阻隔性能,制造成本较高,但是不适用于产业化推广,卷绕式PECVD,成本较高,生产速率较快,阻隔性能优异,非常适用于产业化应用。原子层沉积技术,可以用过数层原子级薄膜实现优异的阻隔性能,但是沉积速率较慢,卷对卷原子层沉积设备还处在研发阶段。

量子点膜可以应用于电视、电脑显示器、电子黑板、PAD、车载显示及手机显示等领域。高阻隔膜产品作为量子点膜的关键组件,随着量子点膜的市场推广和高端显示应用,高阻隔薄膜产品需求呈现快速增长趋势,量子点膜用高阻隔膜产品是量子显示封装技术的关键产品,高阻隔膜的制备技术决定着阻隔膜产品性能特性。

据市场调查网发布的《中国量子点膜用高阻隔膜市场发展形势现状及行业前景预测研究报告》显示,量子点膜可以应用于电视、电脑显示器、电子黑板、PAD、车载显示及手机显示等领域。高阻隔膜产品作为量子点膜的关键组件,随着量子点膜的市场推广和高端显示应用,高阻隔薄膜产品需求呈现快速增长趋势。